重生1993

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第867章 星耀科研所

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星耀科研所正式挂牌运营。

倪广南带着之前的团队,开始了又一轮芯片研发的工作。

而这一次,倪广南仍旧坚持发展自主芯片和操作系统,并且对外不止一次宣称,呼吁上头和各大企业支持linux在华夏的发展。

倪广南所要做的,便是要基于linux发展自主操作系统,建立华夏自主、完整的软件产业体系。

对于这一点,楚天耀当然是十分支持。

而在他的心头,还有着另外一项计划。

那就是解决国产光刻机之痛。

光靠华夏现在的科研力量,根本无法实现自主研发光刻机,所以楚天耀心中的想法,便是花钱买。

而问题的原点,又回到了资本上。

他不得不承认,自己如今又缺钱了。

所以星耀集团必须早日上市。

不过值得楚天耀高兴的是,星耀集团集团化的事已经尘埃落定,并且ipo申请书也正式通过。

兴许是因为花大钱搞科研所的事,为楚天耀引得了不小的名声,星耀集团在内的上市的事并没有遇到什么困难,甚至异常的顺风顺水。

1996年11月27日。

星耀集团正式在深交所上市。

因为有着之前科研所的声势造势,以及良好的财报,所以星耀集团一经上市,股价便不停的上涨,甚至接连出现了好几日的涨停板。

星耀集团的股价,从一开始的一块三毛钱,一路上涨至了八块九毛,并且股价还在不断的往上涨。

毕竟是打着科技名头上市的企业,楚天耀制造出来的噱头可不少,再加上星耀集团旗下几大公司的漂亮财报,一经发布便早已惹得众多投资者纷纷重视。

而反观同样是披着科技名头上市的企业,联想集团在港上市,如今的股价竟然也只是在六块到八块之间波动。

二者竟然相差无几。

这倒是让不少人为之咂舌。

而联想集团股价上不去,柳传智也有些头疼,甚至将怒火迁移到了星耀集团上头。

他认为正是因为星耀集团披着科技企业的名头上市,影响了同为科技企业的联想集团。

于是乎,在柳传智的示意下,坊间开始出现了不少针对星耀集团的负面新闻。qqxδnew

诸如星耀集团成立的科研所,只是为了抬升股价,倪广南等人皆是为了利益,博取大众的眼球。

毕竟,细数星耀集团旗下企业,除了星耀科技之外,其他的还真跟科技两个字不沾边。

也正是因为如此,这些负面新闻倒是起到了一些作用。

眼看星耀集团股价正准备冲破九块时,势头忽然减慢了。

深市。

星耀集团总部大楼。

楚天耀正计划着如何实现自己的光刻机计划。

他眼下有几条路可以走。

一是西方的技术禁令还未彻底实行,他眼下还能通过资金从阿麦斯高价挖来人才,自主研发光刻机。

但没有专利,研发之路可是漫长无期。

还有一条路,那便是前往台岛。

台积电手下有成熟的半导体研发技术,楚天耀没记错的话,台积电日后甚至还能掌握euv光刻机技术,若是他提前出手与台积电合作,说不定能趁机分一杯羹。

“只是,这台积电如今发展势头良好,又怎么可能平白无故跟我合作,再说我就这么去,意图也太明显了。”

办公室里,楚天耀托着下巴,陷入了思考当中。

他之所以能有今日,并非是因为他天生就比别人聪明,而是楚天耀作为重生者,深度掌握了三十年后的大势。

光刻机可是高端制造企业的命门,所以他才会如此看重。

而眼下正是各国光刻机发展最为初期的时候,这时候他不想办法弯道超车,提前入场,只怕再过几年等米国等国醒悟过来,开始搞技术封锁,那到时候对华夏而言,才是重大打击。

“只是,光刻机技术可是核心,阿斯麦虽然不错但眼下已经被米国把控,再过几年应该就能生产出高端光刻机了,拿到他们的技术显然是不可能了,剩下的企业里,还能做出光刻机的……”

自言自语之时,楚天耀的目光忽然看到了自己桌上的一本杂志。

那是一本宣传相机的杂志,封面上便是来自岛国尼康的相机。

“对了,我怎么把他给忘了。”

楚天耀眼前一亮,这才想起自己差点忘记了一件极其重要的事。

“仔细算算时间,眼下正是157nm光源干刻法与193nm光源湿刻法的技术之争的开始,而尼康公司也正是因为押错了宝,所以才跌落神坛。”

楚天耀神色有些激动,正是因为他重生而来的记忆,让他又一次敏锐的察觉到了一次巨大的机缘。

说起这157nm光源干刻法与193nm光源湿刻法,其实只是光刻机两种不同技术。

放眼九十年代,光刻机的光源波长还被卡死在193nm,成为了全产业的面前的一道难关。

只有将光源波长做的越短,芯片的精度才会越高。

而率先研发出高精度芯片的企业,注定会领跑整个行业,将其他企业牢牢地摔在身后。

而针对这项技术,市面上出现了两种方法。

那就是157nm光源干刻法与193nm光源湿刻法。

尼康等公司主张在前代的技术基础上,采用157nm的f2激光,走稳健道路。

而新生的euvllc联盟,则押注于更激进的极紫外技术,用仅有十几纳米的极紫外光,刻十纳米以下的芯片制程。

但不管是这两种技术中的哪一种,技术要求都极其不易。

然而在这个时候,台积电一个叫做林本间的鬼才工程师出现了。

降低光的波长,光源出发是根本方法,高中学生都知道,水会影响光的折射率。

在透镜和硅片之间加一层水,原有的193nm激光经过折射,不就直接越过了157nm的天堑,降低到132nm了!

林本间拿着这项沉浸式光刻方案,兴奋的跑去了米国、德国以及岛国,游说各家半导体巨头。

然而他的方案最终并没有得到认可,甚至还有不少人觉得这家伙就是来搞事的,甚至不止一次警告台积电。

毕竟这只是理想情况,在精密的机器中加水构建浸润环境,既要考虑实际性能,又要操心污染。如果为了这一条短期替代方案,耽误了光源研究,吃力不讨好只是其次,被对手反超可就不好看了。

所以,作为大厂的尼康,选择了在157nm上一条道走到黑,进行光刻机的技术突破。

而在这个时候,也正是阿斯麦公司登场的时候。

一个位于丹麦,只有几十人团队的小角色。

谁都没有想到,阿斯麦竟然和林本间一拍即合,二者赌了一波大的,竟然真的在几年后研发出了第一台样机。

也正是因为先人一步,他们成功拿下了ibm和台积电等大客户的订单,一跃成为了光刻机大厂。

然而,尼康虽然靠着技术突破,也研发出了干式微影157nm技术的成品,但毕竟被阿斯麦抢了风头,更何况波长还略落后于对手,等到一年后又完成了对浸润式技术的追赶,客户却已经不承认“老情人”,毕竟光刻机又不是小朋友玩具,更替要钱,学习更要成本。

至此,尼康在光刻机舞台上,正式黯然离场。

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